ERS사업부

• Rasco-japan
• E.R.S-Seltron(Korea)

E-Beam Chamber

- Photo Mask용 E-Beam장비의 공정 환경(장치 주변 온/습도, 먼지, 전자파 등)을 제어 및 유지 하기 위한 장치

- 일본 Rasco社 와 기술 협력 및 국내 대응

SYSTEM 일반사양

Temp control range	20~25 ℃
Temp control accuracy	±0.02℃
Humidity range	35~50%RH
Humidity range	±0.1%RH
Magnetic field control	Under 0.03μT
Particle class (주변환경 class 1000이하 조건)	Class 1

E,R,S Chamber

- 각종 공정 장비의 환경 ( 장치 주변 온/습도, 먼지)을 제어 및 유지하기 위한 장치

- 국내 독자 기술 대응 ( 필요 시 Rasco社 기술 협력)

SYSTEM 일반사양

Temp control range	20~25 ℃
Temp control accuracy	±0.1℃
Humidity range	45~55%RH
Humidity accuracy	±5%RH
Particle class (주변 환경 Class 1000이하 조건)	Class 1