사업소개
ERS사업부
반도체 제조 공정장비 및 기타설비에 필요한 부품을 요구하는 사양으로 공급합니다.
E-Beam Chamber
Photo Mask용 E-Beam장비의 공정 환경(장치 주변 온/습도, 먼지, 자기장 등)을 제어 및 유지 하기 위한 장치로 일본 Rasco社 와 기술 협력 및 국내 대응 합니다.
| Temp control range | 20~25 ℃ |
| Temp control accuracy | ±0.02℃ |
| Humidity range | 35~50%RH |
| Humidity range | ±0.1%RH |
| Magnetic field control | Under 0.03μT |
| Particle class (주변환경 class 1000이하 조건) |
Class 1 |
E.R.S Chamber
각종 공정 장비의 환경(장치 주변 온/습도, 먼지)을 제어 및 유지하기 위한 장치로 국내 독자 기술 대응합니다.(필요 시 Rasco社와 기술 협력합니다.)
| Temp control range | 20~25 ℃ |
| Temp control accuracy | ±0.1℃ |
| Humidity range | 45~55%RH |
| Humidity range | ±5%RH |
| Particle class (주변환경 class 1000이하 조건) |
Class 1 |
